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课程 \ 光学

Ansys Zemax 成像设计线上培训

¥1980
难度高级
课程介绍
  • 课程介绍
  • 01 OpticStudio 软件功能介绍;

    02 材料库、镜头库介绍;

    03 如何定义新材料;

    04 如何使用镜头库;

    05 像差理论介绍;

    06 Zemax 里像差分析图谱;

    07 优化;

    08 局部优化

    09 全局优化;

    10 锤形优化;

    11 优化函数架构技巧;

    12 单透镜优化实例;

    13 双胶合优化实例;

    14 热分析及衍射光学元件的使用;

    15 实例设计及分析;

    16 MTF;

    17 双高斯镜头设计及优化;

    18 像质评价与图像模拟;

    19 坐标变换;

    20 坐标断点面的使用技巧;

    21 序列模式棱镜建模;

    22 扫描反射镜设计实例;


    23 柯勒照明综合设计实例;

    24 投影系统设计;

    25 集光系统设计;

    26 暗盒系统介绍;

    27 分析工具应用;

    28 寻找最佳非球面;

    29 曲率套样板;

    30 镜头匹配工具;

    31 Zemax 公差分析功能介绍;

    32 加工误差、装配误差;

    33 灵敏度分析;

    34 反灵敏度分析;

    35 蒙特卡罗分析;

    36 公差评价标准;

    37 公差操作数;

    38 补偿变量的使用;

    39 单透镜公差分析;

    40 库克镜头公差分析;

    41 分析报告查看说明;

    42 公差脚本的使用;

    43 镜头出图、CAD 出图;

    44 小结及答疑。




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